特長と利點
高放熱?マルチシナリオ対応 熱伝導グリース、インジウム箔、フラックスレスインジウム箔、グラフェン、ダイヤモンドおよび複合ダイヤモンド材の貼付に対応します。
ピエゾバルブ、スクリューバルブ、Flux Spray スプレーバルブ、2液計量バルブなど多様なバルブ構(gòu)成を搭載可能で、幅広いプロセスに対応します。
高スループット ライン全體で獨立デュアルステーション構(gòu)成およびデュアルレール搬送に対応し、高 UPH を?qū)g現(xiàn)します。
高い拡張性 チルト?回転機構(gòu)を搭載可能で、CPO(Co-Packaged Optics)デバイスへのディスペンスに対応します。
大サイズ対応力 デュアルレール治具 340×340 mm のディスペンスに対応。リングまたはリッド貼付は 150×150 mm まで対応し、大型チップのトレンドに適合します。
大型 FCBGA および O-Panel 連板モードに対応し、3T の熱圧著能力を備えています。
TCB ボンダヘッドを搭載可能で、急速昇降溫によるフラックスレスインジウム箔のダイレクト貼合を?qū)g現(xiàn)。SnapCure 待機を伴う加圧工程を不要化します。
TCB モードでチップと Cu/ダイヤモンド複合材を直接接合し、界面熱抵抗を低減します。
モーター駆動によるリフトアップで柔軟な加圧制御に対応し、ガラス基板プロセスにも適合します。
応用分野
適用シナリオ
| 主なシナリオ | プロセス構(gòu)成 |
| 熱伝導グリース(TIM) | Load-AD-TIM-Lid Attach-SnapCure-Unload(基本構(gòu)成) |
| インジウム箔プロセス(フラックスあり)(Indium) | Load-Flux Spray-Indium Attach-Flux Spray-AD-Lid Attach-SnapCure-Unload(基本構(gòu)成) |
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Load-Coating-Cure-AOI-Flux Spray-Indium Attach-Flux Spray-AD-Lid Attach-SnapCure-Unload (受動部品のダム&フィル工程を含む) |
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ローカルラインモード: ライン①Load-Coating-Cure-AOI + ライン②Flux Spray-Indium Attach-Flux Spray + ライン③AD-Lid Attach-SnapCure-Unload |
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| インジウム箔プロセス(フラックスなし)(Indium) | Load-Indium Attach(第3世代インジウム箔)-TCB Mode Lid Attach(急速昇降溫溶著)-Unload(基本構(gòu)成) |
| グラフェン放熱パッド | Load-Film TIM Graphene Attach-Lid Attach-SnapCure-Unload |
| ダイヤモンド?銅複合材(金メッキ対応可) | Load-液體ガリウム系金屬-TCB Mode Lid Attach(急速昇降溫溶著)-Unload(基本構(gòu)成) |
技術仕様
| クリーンクラス | 作業(yè)エリア清浄度 | クラス100 |
| 駆動機構(gòu) | 駆動システム | X/Y:リニアモータ Z:サーボモータ+ボールねじステージ |
| 繰り返し位置決め精度(3σ) | X/Y:±0.005mm Z:±0.005mm | |
| 位置決め精度(3σ) | X/Y:±0.010mm Z:±0.010mm | |
| 最大移動速度 | X/Y:1500mm/s Z:500mm/s | |
| 最大加速度 | X/Y:1.5g Z:0.5g | |
| リニアスケール分解能 | 0.5μm | |
| コアユニット性能 | レーザー高測定精度 | ±1μm |
| 電子天秤測定精度 | 0.01mg | |
| マーク認識カメラ | 解像度:500萬畫素 ピクセル精度:8 μm/pixel | |
| ディスペンサシステム | ピエゾバルブ、スクリューバルブ、Flux Spray スプレーバルブ、2液計量バルブなどを搭載可能で、幅広いディスペンス工法に対応しています。 | |
| 処理能力 | システム構(gòu)成 | ディスペンスバルブ×2系統(tǒng)、測高、計量、カメラを獨立構(gòu)成で実裝しています。 |
| トラック構(gòu)成 | デュアルレール構(gòu)成 | |
| 治具対応寸法 | 治具 340×340 mm 対応 | |
| ユーティリティ條件 | 設置寸法(W*D*H) | 8300*1600*2100mm |
| システム重量(kg) | 1300kg |